众所周知，所谓硅酸盐垢即是含SiO2＞20%的水垢。但对于不同类型、不同工况的蒸发器而言，其硅酸盐水垢的孽生形态及构型也存在诸多差异，尤其是那些SiO2含量＞40%，且均匀分层或富含有机质及多元素掺杂的致密硅酸盐垢，普通药剂更是难以处理，堪称业界头号“难缠鬼”。
LD-400III蒸发器清洗剂，针对在役蒸发器硅酸盐垢的成垢习性，首创以干涉硅电子（Si）诸元平衡为介入，在快速削弱结晶垢核介质反应能垒的同时，辅以负催化基梯次拆解和异化硅酸盐垢的构相单元，譬如硅晶中的幽闭离子等，持续响应垢体溶解过程中的电荷转移与离子交换，完整建构起药到垢除的硅垢治理闭环，从根本上确保了药剂清洗的可靠性。
理化性质
性状：无色至琥珀色液体 气味：无嗅/低嗅
水溶性：易溶于水 密度：≥1.05
适用范围
- 适用设备：单效蒸发器、双效蒸发器、多效蒸发器、MVR蒸发器等工业蒸发装置
- 适用材质：碳钢、不锈钢、钛合金、镍合金、搪瓷等金属/非金属材质
使用方法
清洗作业时，技术人员可视现场工况选择浸泡或循环清洗，无具体限制性技术要求；药剂的施加量应依据设备的结垢程度及其组分情况具体确定，常规清洗推荐使用量一般为20%-30%（以质量计）；常规清洗推荐温度一般为60℃-70℃，厚垢老垢可适当提高使用剂量和清洗温度。待污垢完全软化或溶散殆尽后，即可置换水冲洗。